電解處理--除（chú）鍍液金屬雜（zá）質方法

 電解處（chù）理是大（dà）家在電鍍工業中常用的除雜質的（de）方法。電解（jiě）處（chù）理亦是一個電鍍過程，不過它不是以獲得良好電鍍層為目的，而是以（yǐ）除雜質為目的。所不（bú）同的隻是在陰極上不吊掛零件，而是改為吊掛以除雜質而（ér）製作的電（diàn）解板。在通電的情況下，使雜質在陰極電（diàn）解板上沉（chén）積、夾（jiá）附或還原成相對無害的物質。
一、電解條件的選擇：這裏（lǐ）所指的電解，目的是（shì）要除鍍液中的雜質，但是在電解除雜質的同時，往往也伴隨有溶液中主要金屬離子的放電沉積。為（wéi）了增（zēng）加除雜質的速率，減慢溶液中主要金屬離子的沉積（jī）速率，就要注意電解處理的操作（zuò）條件。
二、電解處理的要求：
1、先要查明有害雜質是否來源（yuán）於電解過程（chéng）。
2、電解用的陰極麵積要盡（jìn）可能（néng）大。
3、電解過程中，要定時刷洗陰（yīn）極（jí）。
4、電解處理前，先做小試驗估計一下（xià）電解處理的效果和時間.

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