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鋅鎳合金鍍層陰暗原(yuán)因分析鍍層陰暗

發布日期(qī):2019-11-19

 鍍(dù)層陰暗多數出現在(zài)低電流密度區,偶(ǒu)爾(ěr)也有出(chū)現在中電流(liú)密度區或高電流密度區。
低(dī)電流密度(dù)區鍍層(céng)陰暗可能是鍍液溫度太高,電流密度太小,主鹽濃度太低;
次級光亮劑過多或鍍(dù)液中有銅、鋅(xīn)雜質引起(qǐ)的;中電流密度區鍍層陰暗可能是由次級光亮劑(jì)太少,有機雜質過多或有一定量(liàng)的鐵雜質造成的;
高電流密度區鍍層陰暗(àn)可(kě)能是鍍液pH太高,初級光亮劑太少(shǎo)或鍍液中有少量的鉻酸鹽(yán)、磷酸鹽及鉛雜質(zhì)引起的。
此外,鍍前處(chù)理不良,鍍件表麵(miàn)有堿膜或有機物吸附膜,或(huò)者底鍍層(céng)不好也會導致鎳層出現陰暗(àn)的現象。
分析這(zhè)類故障,可以(yǐ)取鍍鎳液(yè)先做赫爾槽試驗,假使多(duō)次試驗,赫爾槽的陰極樣板上(shàng)鍍(dù)層狀況良好,沒有出現(xiàn)陰暗的現象,
那麽電鍍時出現的故障,可能是鍍前處理不(bú)良或(huò)底鍍層(céng)不好造成的(de),應該認真檢查電鍍前的情況。
若(ruò)赫爾槽試驗所得的陰極樣板上出現低電流密度區鍍層陰暗,則可以根據前麵提到的可能原因進行分析。
中、高電流密度(dù)區鍍層陰暗,也可用類似的方法進(jìn)行試驗,這裏不再贅述。

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